
样品要求
1、样品状态:薄膜,样品平面尺寸一般要求5*5mm,最大不超过8*8mm,可以为正方形或者长方形,厚度最好不要超过1mm,样品要求具有一定导电性。
2、粉体样品需要制备为薄膜,具体制备方法及要求如下:先把粉末样品分散在水或乙醇里(浓度尽量低点),滴在硅片上烘干,可以多循环几次,一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁,硅片尺寸5*5mm-5*8mm,厚度几百μm,涂完膜干燥后膜层以完全覆盖住硅片即可(膜层厚度10-50nm即可),膜层的电阻最好小于10兆欧,最大不能超过30兆欧。

1、样品状态:薄膜,样品平面尺寸一般要求5*5mm,最大不超过8*8mm,可以为正方形或者长方形,厚度最好不要超过1mm,样品要求具有一定导电性。
2、粉体样品需要制备为薄膜,具体制备方法及要求如下:先把粉末样品分散在水或乙醇里(浓度尽量低点),滴在硅片上烘干,可以多循环几次,一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁,硅片尺寸5*5mm-5*8mm,厚度几百μm,涂完膜干燥后膜层以完全覆盖住硅片即可(膜层厚度10-50nm即可),膜层的电阻最好小于10兆欧,最大不能超过30兆欧。