焦曲霉

培养条件：28℃；5-7天；好氧；

培养基：硝酸钠：3.0，磷酸氢二钾：1.0，硫酸镁：0.5，氯化钾：0.5，硫酸亚铁：0.01，蔗糖：30.0，琼脂：15.0

形态特性：蔓延生长，丝状，边缘不规则，不透明，正面灰白色，反面绿色，形态扁平，表面粗糙，表面褶皱，质地干燥，纯度：纯，

培养方法：①准备上述平板 1-2 块；②安全柜中打开，用酒精灯灼烧顶部，后迅速滴上无菌水使之破裂，随后用镊子将其敲碎；③吸取 0.5mL 无菌水打入冻干管，充分溶解菌粉后，打入平板中 200μL/个，涂布均匀；④将平板置于上述培养条件下培养，菌种长出即可使用。